Photo lithography	Clean room (Class 10,000)
Thin film deposition : Sputtering (left) and plasma-enhanced chemical vapor deposition (right)

フォトリソグラフィー設備 (Photo lithography)

• イエロールーム（クラス100）/ Yellow room (class 100)
• マスクアライナ、レジストコータ/ Mask alighner, photo resist coater&developer

製膜装置 (Thin film deposition)

• PCVD装置1台、スパッタ装置3台/ Plasma-CVD & Sputtering

高純度ガス供給・除害システム (Purified gas supply & exhaust system)

• N2、O2、H2、TEOS、CF4、SF6、CH4等
• Gas leakage detection and safty system

ドライエッチング装置 (Dry etching)

• ドライエッチング装置２台/ Plasma etching & ICP dry-etching

ウエット（薬液）ステーション (Wet etching)

超純水供給システム (DI water supply system)

材料構造分析装置

• ラマン分光装置
• 昇温脱離分析装置
• FT-IR装置
• X線回折装置
• X線光電子分光装置
• 分光エリプソメータ
• 走査型プローブ顕微鏡
• 低抵抗・高抵抗率計など

電気特性評価解析装置

• マニュアルプローバー(3台)
• 真空プローバー
• 半導体パラメータアナライザ
• LCRメータ
• CV測定装置
• 温度制御ステージ
• Xe光源＋モノクロメータ
• 高抵抗Hall効果測定装置
• パルスジェネレータなど

マスクCADおよびデバイスシミュレーション

• マスクCAD
• デバイスシミュレーション(ATLAS)

透過電子顕微鏡(ナノテクノロジー研究所)

走査電子顕微鏡(ナノテクノロジー研究所)