次世代超高精細ディスプレイに向けた
高性能酸化物半導体薄膜トランジスタに関する研究

研究概要

　近年、液晶や有機ELディスプレイに代表される薄型ディスプレイ(FPD)はTVや携帯電話の映像情報ディスプレイとして日常生活に不可欠になっています。またiPhoneの”Retina”ディスプレイに代表されるように高精細化が進んでいます。これらFPDは”シリコン”を材料とした薄膜トランジスタ(TFT)で画像表示を制御しています。

　しかしながらディスプレイの大画面・超高精細化の進展に伴い、現在主流のシリコンTFTでは電子移動度と大面積展開の両立が難しく、次世代トランジスタ材料・デバイス技術が求められています。

　我々は大面積基板上に展開でき、電子移動度に優れる酸化物半導体を用いた高移動度薄膜トランジスタの研究を行っています。2006年には高移動度な酸化亜鉛(ZnO)TFTアクティブマトリックス駆動液晶ディスプレイの画像表示に世界で初めて成功し、その研究業績は世界的にも高く評価されています。

　我々の研究室では新たに探索した材料を用いて自らの手でトランジスタを作製し、その特性や信頼性、キャリア輸送機構に関する研究を進めており、多くの企業との共同研究を推進しています。